- 詳細介紹
AS500是全自動、試驗（小）型、多功能PVD硬質鍍膜涂層設備，具體技術規格如下：
設備展示
| 真空室尺寸 | Ø760mm * H700mm |
| 均勻可鍍區 | Ø500mm * H300mm |
| 極限真空度 | 3.0*10-4Pa |
| 壓升率 | 0.33Pa/hr（常態） |
| 冷卻水 | 5ton/hr |
| 占據空間 | 4.0*3.0*3.5m3 |
| 真空室 | 日韓304不銹鋼，雙層內襯，五年質保 |
| 抽氣系統 | Edwards/Leybold磁懸浮分子泵+Leybold粗抽泵 |
| 真空檢測 | Inficond薄膜規+SKY90復合真空計 |
| 流量控制 | 七星華創7S-CS200數字流量計/Brooks/MKS/AE |
| 轉架 | 可移出式下轉架（4軸） |
| 陰極電弧 | 最多2組（4套）4G-CAE（靶材規格100*20） |
| 磁控濺射 | 最多2組（4套）柱狀或者平面 |
| 氣體離子源 | 陽極層流型氣體離子源1套 |
| 偏壓電源 | AE Pinnacle Plus 10KW/ Huettinger 18KW |
| 智能源擋板 | 1套，實現鍍膜前的靶材預清洗 |
| 加熱系統 | 最高500度，3根熱電偶監測 |
| 冷卻水循環系統 | 配日本SMC水流開關，智能控制 |
| 電氣元件 | 日本歐姆龍PLC、端子、施耐德等空開、接觸器 |
可選裝如下配置：
1、HIPIMS高能脈沖磁控濺射系統
2、獨立公自轉轉架結構
3、超高真空爐體 5.0* 10-5Pa
4、Gencoa：Speedflo system
5、標準夾具
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