- 詳細介紹
AS14G系列離子鍍膜機是在3G系列的基礎上，集成GIMS氣體離子源增強磁控濺射技術、智能源擋板技術等，在方便性和功能性上有了更大的提高，該設備機型被國內外多家知名手表企業訂購，印度Titan公司，日本精工手表都是采用該機型，詳細的技術規格如下：
丹普真空鍍膜機設備嚴格執行歐盟CE標準和規范設計和制造。
索取離子鍍膜機報價及行業解決方案：huzhongjun@naura.com
| 真空室尺寸 | Ø1250mm * H1000mm |
| 均勻可鍍區 | Ø1000mm * H650mm |
| 極限真空度 | 3.0*10-4Pa |
| 壓升率 | 0.33Pa/hr（常態） |
| 冷卻水 | 6ton/hr |
| 占據空間 | 4.5*4.0*3.5m3 |
| 真空室 | 日韓304不銹鋼，單層內襯，五年質保，前開門+左右兩側側開門，方便維護 |
| 抽氣系統 | KYKY分子泵/Edwards/Leybold磁懸浮分子泵+Leybold粗抽泵+羅茨泵 |
| 真空檢測 | Inficond薄膜規+SKY90復合真空計 |
| 流量控制 | 七星華創7S-CS200數字流量計/Brooks/MKS/AE |
| 轉架 | 上吊裝轉架或可移出式下轉架任選 |
| 陰極電弧 | 最多2組（6套）CAE（靶材規格100*40） |
| 磁控濺射 | 最多3組（6套）柱狀或者平面濺射靶 |
| 氣體離子源 | 陽極層流型氣體離子源1套 |
| 偏壓電源 | AE Pinnacle Plus 10KW/ Huettinger 18KW |
| 智能源擋板 | 1套，實現鍍膜前的靶材預清洗 |
| 加熱系統 | 最高300度，2根熱電偶監測 |
| 冷卻水循環系統 | 配日本SMC水流開關，智能控制 |
| 電氣元件 | 日本歐姆龍PLC、端子、施耐德等空開、接觸器 |
丹普真空鍍膜機設備嚴格執行歐盟CE標準和規范設計和制造。
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